株式会社パテント・リザルトは6月19日、「半導体製造装置業界」の特許を対象に、2025年の特許審査過程において他社特許への拒絶理由として引用された特許件数を企業別に集計した「半導体製造装置業界 他社牽制力ランキング2025」をまとめました。
この集計により、直近の技術開発において競合他社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な企業が明らかになります。
集計の結果、2025年に最も引用された企業は、1位 東京エレクトロン、2位 ＳＣＲＥＥＮホールディングス、3位 APPLIED MATERIALS（以下：AMAT）となりました。
この集計により、直近の技術開発において競合他社が権利化する上で、阻害要因となる先行技術を多数保有している先進的な企業が明らかになります。
集計の結果、2025年に最も引用された企業は、1位 東京エレクトロン、2位 ＳＣＲＥＥＮホールディングス、3位 APPLIED MATERIALS（以下：AMAT）となりました。
1位 東京エレクトロンの最も引用された特許は「ヒータ素線の断線前に寿命を予測するため、昇温期間中の電力最大値と振幅和を測定し、閾値超過で警報を発する装置」に関する技術で、 島津製作所やオムロンなどの計5件の審査過程で引用されています。このほか、「金属含有レジストからのエッジビード領域の金属残留物を低減する方法」に関する技術が引用された件数の多い特許として挙げられ、SAMSUNG SDI（KR）などの計4件の拒絶理由として引用されています。2025年に、東京エレクトロンの特許による影響を受けた企業としてはAMAT、ＳＣＲＥＥＮホールディングス、LAM RESEARCHなどが挙げられます。
2位 ＳＣＲＥＥＮホールディングスの最も引用された特許は「基板の面内エッチングの均一性を向上する基板処理装置」に関する技術で、東京エレクトロンなどの計3件の審査過程で引用されています。このほか「環状部材からガラス基板へトナー画像を転写する際の放電を抑制する転写装置」に関する技術が引用された件数の多い特許として挙げられ、POSCO（KR）の計3件の拒絶理由として引用されています。
2025年に、ＳＣＲＥＥＮホールディングスの特許による影響を受けた企業としては東京エレクトロン、ディスコ、次いでキヤノンなどが挙げられます。
3位 AMATの最も引用された特許は「磁気浮上を利用して半導体基板を処理チャンバ間で効率的に移送できる基板移送システム」に関する技術で、東京エレクトロンの計6件の審査過程において拒絶理由として引用されています。
2025年に、AMATの特許による影響を受けた企業としては東京エレクトロン、LAM RESEARCH、日本特殊陶業などが挙げられます。
4位 ディスコは「ウエーハの研磨方法及び研磨装置」、5位 アルバックは「窒化ガリウム薄膜の製造方法」が、最も引用された特許として挙げられます。
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■ランキングの集計対象
日本特許庁に特許出願され、2025年12月までに公開されたすべての特許のうち、2025年1月から12月末までの期間に拒絶理由（拒絶理由通知または拒絶査定）として引用された特許を抽出。
本ランキングでは、権利移転を反映した集計を行っています。2026年5月末時点で権利を保有している企業の名義でランキングしているため、出願時と企業名が異なる可能性があります。
業種は総務省の日本標準産業分類を参考に分類しています。
■半導体製造装置業界 他社牽制力ランキング2025 データ販売
納品物：以下のデータを収録したエクセルファイル
１）ランキングトップ30社
半導体製造装置業界の被引用件数上位30社のランキング
２）被引用件数上位100件のリスト
半導体製造装置業界の被引用件数上位100件及び引用先の特許との対応を掲載
価格：50,000円（税抜）
お申し込みは下記URLをご参照ください。
https://www.patentresult.co.jp/ranking/fcit/2025/fcitsemi.html
■本件に関するお問い合わせ先
株式会社パテント・リザルト 事業本部 営業グループ
ホームページURL：https://www.patentresult.co.jp/
メールアドレス：info@patentresult.co.jp
■会社概要
社名：株式会社パテント・リザルト
住所：〒101-0021 東京都千代田区外神田2-19-3 お茶の水木村ビル7階
